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3分钟前 供应手机曝光显影询问报价「多图」[利成感光38dbdb8]内容：3D玻璃遮蔽可以移印，贴合，曲面角度小还是可以做贴合工艺；还有就是曝光显影；比如vivo X21，是中间贴膜，四周用喷墨曝光显影补线方式。将需要的图形根据油墨的感光特性制成掩膜板（光罩/Mask)，掩膜板与喷墨后的玻璃紧密接触，通过曝光技术，使图形转印到玻璃之上，完成原有印刷之功能。蚀刻加工中曝光显影是蚀刻工序前的一步重要的工序，曝光是将需要蚀刻的图案通过光绘转移到两张一样的菲林胶片上，然后通过机器定位或者人工定位的方式去将菲林对准，再将涂布感光油墨的蚀刻片置于菲林中间，固定后进行曝光。

过量曝光会使图形线条变细，蚀刻产品线条变粗。所以的办法是依据显影的干膜光亮程度，图像清晰度，图案线条与底片相符，曝光设备参数和感光性能，确定适合的曝光时间。曝光显影加工是半导体工业制程中的一种加工方法，也被称为光刻工艺。它是通过在芯片表面上涂覆一层光刻胶，并使用掩膜在光刻胶上曝光出所需要的芯片图案，通过显影来去除未曝光的部分，将芯片图案准确地转移到芯片表面的制程。

3D玻璃显影曝光技术在HW mateRs用到了此技术，该后盖3D玻璃8曲面，弧面曲率大，

设计八曲面玻璃主要是为了满足如下两点需求：

1:为压缩整机厚度，后盖弧度大可增加架构空间，另未来5G的发展，器件增加，空间需加大;

显影液去除并且清洗（rinse）：达到显影时间后，使用DIW立即冲洗晶圆表面。去离子水不仅可以使显影过程终止，而且会把显影后缺陷颗粒冲洗掉。在冲洗过程中，晶圆旋转产生的离心力也对去除表面颗粒有很大的帮助。